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導(dǎo)讀: 由于有周恩來主持制定的科學規(guī)劃,新中國的集成電路產(chǎn)業(yè)起步和發(fā)展,在帝國主義的封鎖下開了個好頭,經(jīng)過20余年的辛勤奮斗,盡管與世界發(fā)達水平還有一定距離,但也是碩果累累。截至70年代末,中國科研人員和產(chǎn)業(yè)工人發(fā)揚自力更生、自強不息的精神,建成了中國自己的半導(dǎo)體工業(yè),基本掌握了從單晶制備、設(shè)備制造、集成電路制造的全過程技術(shù)。在當時,只有美國、蘇聯(lián)掌握從單晶制備、設(shè)備制造、集成電路制造的全過程技術(shù),雖然日本技術(shù)很強,但個別領(lǐng)域被美國限制和閹割。而此時,韓國、臺灣才剛剛起步。正是在自力更生、艱苦奮斗的精神和公有制體
新中國建國后的第一個三十年,我國計算機和集成電路事業(yè)在自主趕超路線的主導(dǎo)和公有制科研、生產(chǎn)體系的統(tǒng)籌下,從無到有,初步建立起了獨立完整的產(chǎn)業(yè)體系,不斷縮小與日本、美國的差距,比韓國起步早,發(fā)展快,對今天的芯片產(chǎn)業(yè)自主研發(fā)仍有重要的啟示。
對鋼鐵技術(shù)產(chǎn)業(yè)、電子信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)都做過專門研究的老一代革命家馬賓(原鞍鋼總經(jīng)理、總工程師,改革開放后歷任冶金工業(yè)部副部長、國家進出口委員會副主任、國務(wù)院經(jīng)濟研究中心副總干事等)早在90年代初指出,“如果說集成電路是電子信息產(chǎn)業(yè)的核心,那么繼承電路生產(chǎn)的支撐產(chǎn)業(yè)就是電子信息工業(yè)的基礎(chǔ)。”“IC產(chǎn)品的競爭,實際上是制造設(shè)備的競爭”,從65-78年,“產(chǎn)業(yè)內(nèi)各行業(yè)是同步發(fā)展的,并已建立了較完整的設(shè)備、儀器、材料、科研、生產(chǎn)的體系”。
1、科研和生產(chǎn)布局:集中攻關(guān),遍地開花
科研和生產(chǎn)配置方面,早在建國初期,1950年抗美援朝戰(zhàn)爭爆發(fā)后,為解決軍隊電子通信問題,國家成立電信工業(yè)管理局,在北京酒仙橋籌建北京電子管廠(京東方前身),由民主德國(東德)提供技術(shù)援助。酒仙橋還建起了規(guī)模龐大的北京電機總廠、華北無線電器材聯(lián)合廠(下轄706、707、718、751、797、798廠)、北京有線電廠(738廠)、華北光電技術(shù)研究所等單位。在1952年,中國便成立了電子計算機科研小組,由當時的數(shù)學研究所所長華羅庚負責。
1956年,中國提出“向科學進軍”,國家制訂了發(fā)展各門尖端科學的“十二年科學技術(shù)發(fā)展遠景規(guī)劃”,把計算機列為發(fā)展科學技術(shù)的重點之一,并籌建了中國第一個計算技術(shù)研究所。根據(jù)國外發(fā)展電子器件的進程,提出了中國也要研究發(fā)展半導(dǎo)體科學,把半導(dǎo)體技術(shù)列為國家四大緊急措施之一。從半導(dǎo)體材料開始,自力更生研究半導(dǎo)體器件。為了落實發(fā)展半導(dǎo)體規(guī)劃,中國科學院應(yīng)用物理所首先舉行了半導(dǎo)體器件短期訓練班。請回國的半導(dǎo)體專家內(nèi)昆、吳錫九、黃敞、林蘭英、王守武、成眾志等講授半導(dǎo)體理論、晶體管制技術(shù)和半導(dǎo)體線路。參加短訓班的約100多人。
當時國家決定由五所大學-北京大學、復(fù)旦大學、吉林大學、廈門大學和南京大學聯(lián)合在北京大學半導(dǎo)體物理專來,共同培養(yǎng)第一批半導(dǎo)體人才。五校中最出名的教授有北京大學的黃昆、復(fù)旦大學的謝希德和吉林大學的高鼎三。1957年就有一批畢業(yè)生,其中有現(xiàn)在成為中國科學院院士的王陽元(北京大學)、工程院院士的許居衍(華晶集團公司)和電子工業(yè)部總工程師俞忠鈺等人。之后,清華大學等一批工科大學也先后設(shè)置了半導(dǎo)體專業(yè),培養(yǎng)了大批專業(yè)人才。
1958年,上海組建華東計算技術(shù)研究所,及上海元件五廠、上海電子管廠、上海無線電十四廠等企業(yè)。使上海和北京,成為中國電子工業(yè)的南北兩大基地。1960年,中國科學院在北京成立半導(dǎo)體研究所,集中了王守武博士、黃昆博士、林蘭英博士等著名海外歸國專家。同年組建河北半導(dǎo)體研究所(后為中電集團第13所),進行工業(yè)技術(shù)攻關(guān)。
到六十年代初,中國半導(dǎo)體器件開始在工廠生產(chǎn)。此時,國內(nèi)搞半導(dǎo)體器件的已有十幾個廠點。當時北方以北京電子管廠為代表,生產(chǎn)了II-6低頻合金管和II401高頻合金擴散管;南方以上海元件五廠為代表。
1961年我國第一個集成電路研制課題組成立。1962年由中科院半導(dǎo)體所,組建全國半導(dǎo)體測試中心。1963年中央政府組建第四機械工業(yè)部,主管全國電子工業(yè)(1982年改組為電子工業(yè)部),由通信專家王諍中將任部長。1968年,我國組建國營東光電工廠(878廠)、上海無線電十九廠,至1970年建成投產(chǎn),形成中國IC產(chǎn)業(yè)中的“兩霸”。
中國早期電子工業(yè),主要以軍事項目為牽引,研制軍用航空電子設(shè)備、彈道導(dǎo)彈控制設(shè)備、核武器配套電子設(shè)備、軍用雷達、軍用通訊器材、軍用電子計算機等產(chǎn)品。1958年開始研制東方紅衛(wèi)星后,又將防輻射級太空電路列入研究項目。民用電子產(chǎn)品以收音機為主。70年代初,受國內(nèi)外微電子業(yè)迅速發(fā)展的影響,加上集成電路的利潤豐厚,國內(nèi)出現(xiàn)一股電子熱潮,全國建設(shè)了四十多家集成電路工廠,包括四機部下屬的749廠(甘肅天水永紅器材廠)、871廠(甘肅天水天光集成電路廠)、878廠(北京東光電工廠)、4433廠(貴州都勻風光電工廠)和4435廠(湖南長沙韶光電工廠)等,各省市另外投資建設(shè)了大批電子企業(yè),為以后進行大規(guī)模集成電路的研究和生產(chǎn)提供了工業(yè)基礎(chǔ)。
2、科研和生產(chǎn)成果:自力更生,逐漸縮小同國外差距
在科研和生產(chǎn)成果上,前三十年我國整體上緊跟世界相關(guān)領(lǐng)域的先進成就,不斷縮小同發(fā)達國家的距離,下面是幾個具有標志性的成果比較:
1957年,北京電子管廠通過還原氧化鍺,拉出了鍺單晶。中國科學院應(yīng)用物理研究所和二機部十局第十一所開發(fā)鍺晶體管。當年,中國相繼研制出鍺點接觸二極管和三極管(即晶體管)。國外最早是在1947年,美國貝爾實驗室發(fā)明了半導(dǎo)體點接觸式晶體管。中外差距:10年。
1963年(一說1962年),河北省半導(dǎo)體研究所制成硅平面型晶體管。平面工藝技術(shù)是半導(dǎo)體元件制作中的一個關(guān)鍵環(huán)節(jié),是制作集成電路的基礎(chǔ)。國外最早是在1958年,由仙童半導(dǎo)體公司 (Fairchild Semiconductor,也譯作“飛兆公司”)首先發(fā)展出平面工藝技術(shù)。中外差距:5年。
1962年,為解決晶體管制造難題,中國人民解放軍軍事工程學院四系四○四教研室康鵬(25歲)臨危受命,成功研發(fā)“隔離-阻塞振蕩器”(后被命名為康鵬電路),解決了晶體管的穩(wěn)定性問題,使中國比美國晚近8年進入晶體管時代。
在解決晶體管制造難題后,哈軍工(由慈云桂主持設(shè)計)成功研制出新中國第一臺全晶體管計算機441B-I于1964年誕生,比美國第一臺全晶體管計算機RCA501只晚了6年。441B計算機1966年參加北京的計算機展覽,恰逢邢臺大地震,在地震中穩(wěn)定運行。
1964年,吳幾康成功研制119計算機,該計算機運算能力為每秒5萬次,運算能力略強于美國于1958年制造的IBM 709計算機,IBM 709計算機的運算能力為每秒4.2萬次。119計算機同1965年研制成功的109機,在我國研制氫彈的歷程中立下很大功勞,被稱為“功勛機”。
119計算機
1965年12月,河北半導(dǎo)體研究所召開鑒定會,鑒定了第一批半導(dǎo)體管,并在國內(nèi)首先鑒定了DTL型(二極管―晶體管邏輯)數(shù)字邏輯電路。1966年底,在工廠范圍內(nèi)上海元件五廠鑒定了TTL(晶體管-晶體管邏輯)電路產(chǎn)品。DTL和TTL都是雙極型數(shù)字集成電路,它們的研制成功標志著中國已經(jīng)制成了自己的小規(guī)模集成電路。國外最早:1958年-1959年,美國德州儀器公司和仙童公司各自研制發(fā)明了半導(dǎo)體集成電路,1960年仙童半導(dǎo)體研發(fā)了第一塊商用集成電路。中外差距:5-7年。
有了初級規(guī)模的集成電路,就有了制造第三代計算機(中、小規(guī)模集成電路)的基礎(chǔ)。中國第一臺第三代計算機是由位于北京的華北計算技術(shù)研究所研制成功的,采用DTL型數(shù)字電路,與非門是由北京電子管廠生產(chǎn),與非驅(qū)動器是由河北半導(dǎo)體研究所生產(chǎn),展出年代是1968年。國外最早是在1961年,德州儀器為美國空軍研發(fā)出第一個基于集成電路的計算機,即所謂的“分子電子計算機”。中外差距:7年。
與雙極型電路相比,MOS(金屬氧化物)電路具有電路簡單、功耗低、集成度高的優(yōu)勢。 1968年,上海無線電十四廠首家制成PMOS(P型金屬氧化物半導(dǎo)體)電路,拉開了我國發(fā)展MOS電路的序幕,并在七十年代初,永川半導(dǎo)體研究所(現(xiàn)電子第24所)、上無十四廠和北京878廠相繼研制成功NMOS電路,之后又研制成CMOS電路(互補型MOS電路)。國外最早:1960年,美國無線電(RCA)制造出金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管。1962年,美國無線電(RCA)制造了一個實驗性的MOS集成電路器件。1963年,仙童實驗室研制成CMOS電路。中外差距:6-7年。
1972年,我國自主研制的大規(guī)模集成電路在四川永川半導(dǎo)體研究所誕生,實現(xiàn)了從中小集成電路發(fā)展到大規(guī)模集成電路的跨越。國外:1971年,Intel(英特爾)推出1kb動態(tài)隨機存儲器(DRAM),包含2000多只晶體管,標志著大規(guī)模集成電路出現(xiàn)。中外差距:1年。
1975年,北京大學物理系半導(dǎo)體研究小組,由王陽元等人,設(shè)計出我國第一批三種類型的(硅柵NMOS、硅柵PMOS、鋁柵NMOS)1K DRAM動態(tài)隨機存儲器,它比美國英特爾公司研制的C1103要晚五年,但是比韓國、臺灣要早四五年。此時,臺灣才剛剛在向美國購買3英寸晶圓廠。
北京大學校史陳列館展示的相關(guān)器件
1975年,上海無線電十四廠成功開發(fā)出當時屬國內(nèi)最高水平的1024位移位存儲器,集成度達8820個元器件,達到國外同期水平。到上世紀70年代末,我國又陸續(xù)研制出256和1024位ECL高速隨機存儲器,后者達到國際同期的先進水平;可以生產(chǎn)NMOS256位和4096位、PMOS1024位隨機存儲器;掌握了對于大規(guī)模集成電路制造起著重要作用的無顯影光刻技術(shù),可用于制造分子束外延設(shè)備。
總體來看,在這個時期,雖然美國計算機發(fā)展迅猛,但中國同行追得也很快,從無到有,差距逐漸縮小,甚至在某些局部領(lǐng)域追平西方,達到先進水平。中科院上海冶金所還獨立發(fā)展了制造集成電路所需要的離子注入機,并出口到日本。
截至70年代末,中國科研人員和產(chǎn)業(yè)工人發(fā)揚自力更生、自強不息的精神,建成了中國自己的半導(dǎo)體工業(yè),基本掌握了從單晶制備、設(shè)備制造、集成電路制造的全過程技術(shù)。在當時,只有美國、蘇聯(lián)掌握從單晶制備、設(shè)備制造、集成電路制造的全過程技術(shù),雖然日本技術(shù)很強,但個別領(lǐng)域被美國限制和閹割。而此時,韓國、臺灣才剛剛起步。
3、前三十年集成電路事業(yè)迅速趕超發(fā)展的經(jīng)驗
總結(jié)新中國前三十年集成電路事業(yè)的趕超發(fā)展,有幾點經(jīng)驗值得今天學習(專業(yè)研究產(chǎn)業(yè)問題的學者鐵流對此有很好的總結(jié),筆者也頗為認同,以下部分參考了其文中的一些觀點或論述):
一是堅持自主研發(fā)的趕超路線。
貫穿前三十年技術(shù)進步的是自力更生,艱苦奮斗的精神。50年代,即使我國已經(jīng)引進了蘇聯(lián)的技術(shù)資料,依舊保留自己的技術(shù)研發(fā)團隊,例如夏培肅于1954年即著手基本邏輯電路的設(shè)計、試驗和運算器、控制器的邏輯設(shè)計,這為我國同蘇聯(lián)交惡后自主研制計算機打下了堅實的基礎(chǔ)。此后,中國的科研工作人員在沒有外援的情況下,自力更生,完成了一個又一個技術(shù)攻關(guān)。從有國外留學經(jīng)驗的老科學家,到共和國自己培養(yǎng)的年輕科研人員,都發(fā)揮了極大創(chuàng)造力,例如前述25歲就研發(fā)出“隔離-阻塞振蕩器”,解決重大技術(shù)難題的康鵬。
這一時期,中國也抓住有利時機從國外引進先進技術(shù)設(shè)備。進行充分消化吸收。但無論是50年代末引進蘇聯(lián)技術(shù)資料,還是70年代通過特殊渠道少量購買歐美先進設(shè)備,走的是都“消化吸收、融會貫通、推陳出新、舉一反三”的路線,技術(shù)引進不僅沒對自主技術(shù)造成沖擊,反而使其融入自己的工業(yè)體系中,使中國自主技術(shù)更上一層樓。
70年代,通過購買國外單臺設(shè)備,我國自己組建了三條生產(chǎn)線,以緩解國內(nèi)制造計算機的迫切需要。1972年美國總統(tǒng)尼克松訪華后,中國開始從歐美引進技術(shù)。對于當時屬于高科技領(lǐng)域的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),中國雖然始終無法從官方途徑大規(guī)模引進半導(dǎo)體設(shè)備和技術(shù)資料,但也通過特殊渠道少量購買單機設(shè)備,并將其消化吸收后,大量仿制,推陳出新,搭建了自己的生產(chǎn)線。
在此期間,西方有意遏制中國尖端技術(shù)的發(fā)展勢頭,1973年我國7個單位分別從國外引進單臺設(shè)備,以期建成七條3英寸工藝線,但由于歐美技術(shù)封鎖等各種因素,最終拖了7年才引進,引進時已經(jīng)落后于國際先進水平。這也說明不論什么時候,什么條件下,堅持自主創(chuàng)新為主始終是第一位的。
二是重視科研投入和科研人才培養(yǎng)。
新中國前三十年的社會主義建設(shè)時期,我國依靠“高積累、低消費”的方式集中大量資源用于國家工農(nóng)業(yè)基礎(chǔ)設(shè)施的建設(shè)和國防技術(shù)研發(fā),一代人吃兩代人的苦,將一個落后的農(nóng)業(yè)國建設(shè)成為擁有核武器的世界第六大工業(yè)國,計算機、集成電路這樣的高科技產(chǎn)業(yè)也從無到有,發(fā)展壯大。
在此期間,雖然國家財政并不富余,但中國用于科技研發(fā)的經(jīng)費占國民生產(chǎn)總值的平均比例為1.28%,達到當時幾個初等發(fā)達國家的平均水平(如意大利、西班牙);到70年代末,隨著經(jīng)濟實力的提升該比值提升到2.32%,做到了竭盡所能為科研工作保障資金。這一投入遠遠超越改革開放后的水平(80年代中期以后一度降到0.6%以下),達到同期幾個最發(fā)達國家英、法、西德的水平,僅比當時的美國、日本低一些(美國長期為2.8-3.0%,日本70年代以前1.6%,進入70年代后與美國接近)。
在人才方面,我國一方面積極吸引在海外留學、工作的技術(shù)人才回國效力;另一方面積極培育自己的人才,在開設(shè)短期速成班的同時,在院校開設(shè)計算機專業(yè),培育專業(yè)技術(shù)人才,并送優(yōu)秀尖子赴蘇聯(lián)深造。高水平的科研經(jīng)費比例,保證了即便在困難時期和政治動蕩的年份,也能盡可能的為科研人員提供基本的生活、工作條件。
三是全國統(tǒng)籌協(xié)作的研發(fā)模式。
從前述列舉的重大成就來看,當時的科研單位雖然分散在全國各地,但在重大問題的攻堅上卻是協(xié)同作戰(zhàn)和成功共享的。在全國統(tǒng)籌協(xié)作的舉國體制下,各個單位互幫互助,以集中全國科研力量攻堅克難的方式解決了科研道路一個個難題。國家還經(jīng)常舉辦各種展覽會,方便各單位進行技術(shù)交流。
正是在自力更生、艱苦奮斗的精神和公有制體制的保障下,我國計算機和集成電路事業(yè)在前三十年取得了一個又一個成就。
4、新中國半導(dǎo)體及集成電路發(fā)展大事記:
1956年,中央提出了“向科學進軍”的口號。周恩來隨后主持制定了“十二年科學技術(shù)發(fā)展遠景規(guī)劃”(以下簡稱“科學規(guī)劃”)。他有遠見地提出和確定了四項“緊急措施”,即大力發(fā)展計算機、無線電電子學、半導(dǎo)體、自動化,并將新技術(shù)應(yīng)用于工業(yè)和國防。
1956年,在周總理的正確領(lǐng)導(dǎo)下,我國提出“向科學進軍”,根據(jù)國外發(fā)展電子器件的進程,提出了中國也要研究半導(dǎo)體科學,把半導(dǎo)體技術(shù)列為國家四大緊急措施之一。中國科學院應(yīng)用物理所首先舉辦了半導(dǎo)體器件短期培訓班。請回國的半導(dǎo)體專家黃昆、吳錫九、黃敞、林蘭英、王守武、成眾志等講授半導(dǎo)體理論、晶體管制造技術(shù)和半導(dǎo)體線路。在五所大學――北京大學、復(fù)旦大學、吉林大學、廈門大學和南京大學聯(lián)合在北京大學開辦了半導(dǎo)體物理專業(yè),共同培養(yǎng)第一批半導(dǎo)體人才。培養(yǎng)出了第一批著名的教授:北京大學的黃昆、復(fù)旦大學的謝希德、吉林大學的高鼎三。1957年畢業(yè)的第一批研究生中有中國科學院院士王陽元(北京大學微電子所所長)、工程院院士許居衍(華晶集團中央研究院院長)和電子工業(yè)部總工程師俞忠鈺(北方華虹設(shè)計公司董事長)。
1957年,北京電子管廠通過還原氧化鍺,拉出了鍺單晶。中國科學院應(yīng)用物理研究所和二機部十局第十一所開發(fā)鍺晶體管。當年,中國相繼研制出鍺點接觸二極管和三極管(即晶體管)。
1958年,美國德州儀器公司和仙童公司各自研制發(fā)明了半導(dǎo)體集成電路(IC)之后,發(fā)展極為迅猛,從SSI(小規(guī)模集成電路)起步,經(jīng)過MSI(中規(guī)模集成電路),發(fā)展到LSI(大規(guī)模集成電路),然后發(fā)展到現(xiàn)在的VLSI(超大規(guī)模集成電路)及最近的ULSI(特大規(guī)模集成電路),甚至發(fā)展到將來的GSI(甚大規(guī)模集成電路),屆時單片集成電路集成度將超過10億個元件。
1959年,天津拉制出硅(Si)單晶。
1960年,中科院在北京建立半導(dǎo)體研究所,同年在河北建立工業(yè)性專業(yè)化研究所――第十三所(河北半導(dǎo)體研究所)。
1962年,天津拉制出砷化鎵單晶(GaAs),為研究制備其他化合物半導(dǎo)體打下了基礎(chǔ)。
1962年,我國研究制成硅外延工藝,并開始研究采用照相制版,光刻工藝。
1963年,河北省半導(dǎo)體研究所制成硅平面型晶體管。
1964年,河北省半導(dǎo)體研究所研制出硅外延平面型晶體管。
1965年12月,河北半導(dǎo)體研究所召開鑒定會,鑒定了第一批半導(dǎo)體管,并在國內(nèi)首先鑒定了DTL型(二極管――晶體管邏輯)數(shù)字邏輯電路。1966年底,在工廠范圍內(nèi)上海元件五廠鑒定了TTL電路產(chǎn)品。這些小規(guī)模雙極型數(shù)字集成電路主要以與非門為主,還有與非驅(qū)動器、與門、或非門、或門、以及與或非電路等。標志著中國已經(jīng)制成了自己的小規(guī)模集成電路。
1968年,組建國營東光電工廠(878廠)、上海無線電十九廠,至1970年建成投產(chǎn),形成中國IC產(chǎn)業(yè)中的“兩霸”。
1968年,國防科委在四川永川縣,成立固體電路研究所(即永川半導(dǎo)體研究所,解放軍1424研究所,現(xiàn)中電集團24所)。這是中國唯一的模擬集成電路研究所。同年上海無線電十四廠首家制成PMOS(P型金屬-氧化物半導(dǎo)體)電路。拉開了中國發(fā)展MOS集成電路的序幕。七十年代初,永川半導(dǎo)體研究所(現(xiàn)電子第24所)、上無十四廠和北京878廠相繼研制成功NMOS電路。之后,又研制成CMOS電路。
七十年代初,IC價高利厚,需求巨大,引起了全國建設(shè)IC生產(chǎn)企業(yè)的熱潮,共有四十多家集成電路工廠建成,四機部所屬廠有749廠(永紅器材廠)、871(天光集成電路廠)、878(東光電工廠)、4433廠(風光電工廠)和4435廠(韶光電工廠)等。各省市所建廠主要有:上海元件五廠、上無七廠、上無十四廠、上無十九廠、蘇州半導(dǎo)體廠、常州半導(dǎo)體廠、北京半導(dǎo)體器件二廠、三廠、五廠、六廠、天津半導(dǎo)體(一)廠、航天部西安691廠等等。
1972年,中國第一塊PMOS型LSI電路在四川永川半導(dǎo)體研究所研制成功。
1973年,我國7個單位分別從國外引進單臺設(shè)備,期望建成七條3英寸工藝線,最后只有北京878廠,航天部陜西驪山771所和貴州都勻4433廠。
1975年,北京大學物理系半導(dǎo)體研究小組,由王陽元等人,設(shè)計出我國第一批三種類型的(硅柵NMOS、硅柵PMOS、鋁柵NMOS)1K DRAM動態(tài)隨機存儲器,它比美國英特爾公司研制的C1103要晚五年,但是比韓國、臺灣要早四五年。那時韓國、臺灣根本就沒有電子工業(yè)科研基礎(chǔ)。
1975年,上海無線電十四廠成功開發(fā)出當時屬國內(nèi)最高水平的1024位移位存儲器,集成度達8820個元器件,達到國外同期水平。
1976年11月,中國科學院計算所研制成功1000萬次大型電子計算機,所使用的電路為中國科學院109廠(現(xiàn)中科院微電子中心)研制的ECL型(發(fā)射極耦合邏輯)電路。
1978年10月,中國科學院成立半導(dǎo)體研究所,由王守武領(lǐng)導(dǎo),研制4K DRAM,次年在中科院109廠投入批量生產(chǎn)(比美國晚六年)。
由于有周恩來主持制定的科學規(guī)劃,新中國的集成電路產(chǎn)業(yè)起步和發(fā)展,在帝國主義的封鎖下開了個好頭,經(jīng)過20余年的辛勤奮斗,盡管與世界發(fā)達水平還有一定距離,但也是碩果累累。
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